多次來(lái)到光谷,習(xí)近平為何重點(diǎn)關(guān)注這個(gè)領(lǐng)域?
摘要:2013年至今四赴光谷實(shí)地調(diào)研,今年在多地考察重點(diǎn)關(guān)注,習(xí)近平總書記對(duì)科技創(chuàng)新的關(guān)切和重視,始終如一。
1月5日下午,習(xí)近平總書記到武漢產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新發(fā)展研究院考察,觀看科技創(chuàng)新供應(yīng)鏈平臺(tái)成功案例展示和科技創(chuàng)新成果,了解推進(jìn)科技創(chuàng)新的舉措,同科研人員和企業(yè)負(fù)責(zé)人深入探討交流。
2013年至今四赴光谷實(shí)地調(diào)研,今年在多地考察重點(diǎn)關(guān)注,習(xí)近平總書記對(duì)科技創(chuàng)新的關(guān)切和重視,始終如一。
責(zé)任編輯:王顥晨
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